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微射流超高压均质机分散纳米二氧化硅实验步骤与结果

作者:www.willnano.com 日期:2019-07-31 点击:264
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关键词:二氧化硅,微射流,微射流超高压均质机,纳米SiO2分散

纯二氧化硅(SiO2)为白色固体粉末,是制造水玻璃、光纤的核心原材料,同时二氧化硅是电子工业重要部件、耐火材料、光学仪器、工艺品的重要原料。近年来除了传统应用领域之外,二氧化硅越来越多的在光导纤维、通讯工业中的微波滤波器、集成电路的制造中扮演重要角色。

常温下二氧化硅(SiO2)为不溶于水的白色固体粉末,本文将介绍微射流超高压均质机分散处理纳米二氧化硅水溶液的步骤与结果。

实验试剂
分析纯二氧化硅(SiO2)粉末(来自客户)
双蒸水

 二氧化硅固体粉末

图 二氧化硅固体粉末(来自客户)

实验主要设备
磁力搅拌器
Genizer微射流超高压均质机 苏州微流纳米生物技术有限公司供应
H10z金刚石均质腔 苏州微流纳米生物技术有限公司供应

Genizer微射流超高压均质机

图Genizer 实验型微射流超高压均质机


实验步骤:
1. 称取5g二氧化硅粉末,溶解于100ml水中;
2. 磁力搅拌初步混匀;
3. 15000psi、25000psi条件下微射流高压均质反应1次、3次,并分别取样用于粒度测试;
4. 在线清洗设备,收拾试验台。

实验结果
1. 采用鲁尔注射器的方式上样,经过金刚石交互容腔反应1次的样品与未进行微射流高压均质反应的样品在进出料注射器中有较明显的颜色与透明度差异。

微射流高压均质反应中的样品

图 在线微射流高压均质反应中的样品

进入金刚石交互容腔均质反应前样品外观

图 进入金刚石交互容腔均质反应外观放大

进入金刚石交互容腔均质反应1次后

图 进入金刚石交互容腔均质反应1次后样品外观放大


2.15000psi与25000psi条件下,微射流均质反应1次、3次,并留样。

不同压力与反应次数处理的二氧化硅水溶液

图 不同压力与反应次数处理的二氧化硅水溶液(左.未处理对照组,往右依次是15Kpsi1次、3次,25Kpsi 1次、3次


3. 粒径检测与ζ电位检测:检测结果为客户反馈,如下图

15Kpsi微射流高压均质反应1次粒径与电位报告

图 15Kpsi微射流高压均质反应1次粒径与电位报告

粒径与Zeta电位检测报告25K3.png

图 25Kpsi微射流高压均质反应3次粒径与电位报告

小结:

二氧化硅粉末与水粗混合后,经过Genizer微射流高压均质机均质分散反应1次后,便可获得较为均一的分散效果,15Kpsi 反应1次的二氧化硅水溶液D90为10nm,D50 5nm 左右;ζ电位在100左右,也显示处溶液较好的稳定性。


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王经理

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